| 设备规格参数 | |
| 设备型号 | StepUX-8 |
| 分辨率[um] | 8/8 |
| 套刻精度[um] | ±0.1 |
| 焦深[um] | ±150 |
| 曝光区域[mm] | 52x33 |
| 基板尺寸[inch] | 6/8/12（可根据需求提供其他基板尺寸） |
| 减速比 | 1:2或1:1 |
| NA（数值孔径） | 0.24-0.12（可变） |
| 光源 | i线365nm（ghi） |
StepUX-8
描述：StepAX对准投影式系列采用先进的光学设计技术，以及超高精度光学系统机构的设计、组装和调整技术，制造出分辨率达到理论极限的投影镜头，适用于6/8/12inch等集成电路先进封装领域，包括Wafer、RDL、Bumping、TSV等制程工艺， 能够对MEMS、IGBT、COMS图像传感器、微纳光学领域等精细图像的曝光。
产品特点：
• 分辨率：8um
• 套刻精度：±0.1um
• 高精度对准技术
• 边缘保护/边缘曝光
• 翘曲片处理
• 独有的物台加速和同步控制技术
产品特点：
• 分辨率：8um
• 套刻精度：±0.1um
• 高精度对准技术
• 边缘保护/边缘曝光
• 翘曲片处理
• 独有的物台加速和同步控制技术
