| 设备规格参数 | |
| 设备型号 | PrintEX-40 |
| 平台类型 | 双台面 |
| 最大基板尺寸[mm] | 630x810 |
| 最小基板尺寸[mm] | 200x200 |
| 板厚[mm] | 0.03 - 5 |
| 最小解析[um] | 40/40 |
| 线宽均匀性 | 10% |
| 对位精度[um] | ±10 |
| 产能[p/h] | 600 |
| 感光焦深[um] | ±300 |
| 光斑均匀性 | >95% |
| 光源[nm] | 405 |
| 兼容 | 干膜、湿膜 |
| 制程 | 内层、外层线路 |
| 工作环境 | 电源:AC380V±5%/50HZ/27A/6KW |
| 湿度:50+10%RH | |
| 温度:22+5°C | |
| 洁净度:10000级 | |
| 设备尺寸[m] | 长1.7x宽2.2x高2.0 |
PrintEX-40
描述：适用于替代传统线路层曝光机进行大规模量产，提升良率、产品品质，降低生产成本，适用于多层板、HDI、高阶HDI、IC载板以及软板等场景。
产品特点：
• 双工作台面，提升生产效率
• 光机模组合自主可配
• 适用于内外层制程
• 最小线宽\线距：40um\40um
• 支持多种涨缩、对位功能
• 友好交互，一键操作，易学易用
• 支持拼板
产品特点：
• 双工作台面，提升生产效率
• 光机模组合自主可配
• 适用于内外层制程
• 最小线宽\线距：40um\40um
• 支持多种涨缩、对位功能
• 友好交互，一键操作，易学易用
• 支持拼板
