设备规格参数 | |
设备型号 | StepUX-1 |
分辨率[um] | 1/1 |
套刻精度[um] | ±0.1 |
焦深[um] | ±150 |
曝光区域[mm] | 52x33 |
基板尺寸[inch] | 6/8/12(可根据需求提供其他基板尺寸) |
减速比 | 1:2或1:1 |
NA(数值孔径) | 0.24-0.12(可变) |
光源 | i线365nm(ghi) |
StepUX-1
描述:StepAX对准投影式系列采用先进的光学设计技术,以及超高精度光学系统机构的设计、组装和调整技术,制造出分辨率达到理论极限的投影镜头,适用于6/8/12inch等集成电路先进封装领域,包括Wafer、RDL、Bumping、TSV等制程工艺, 能够对MEMS、IGBT、COMS图像传感器、微纳光学领域等精细图像的曝光。
产品特点:
• 分辨率:1um
• 套刻精度:±0.1um
• 高精度对准技术
• 边缘保护/边缘曝光
• 翘曲片处理
• 独有的物台加速和同步控制技术
产品特点:
• 分辨率:1um
• 套刻精度:±0.1um
• 高精度对准技术
• 边缘保护/边缘曝光
• 翘曲片处理
• 独有的物台加速和同步控制技术